Horno de deposición de vapor químico CVD
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La deposición de vapor químico de nuestra empresa (deposición de vapor químico, CVD) es un método al introducir sustancias precursoras (generalmente compuestos orgánicos o compuestos orgánicos metálicos) en el gas de reacción en la cámara de...
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La deposición de vapor químico (CVD) es un método al introducir sustancias precursoras (generalmente compuestos orgánicos o compuestos orgánicos metálicos) en el gas de reacción en la cámara de reacción, y hacer que se descomponen térmicamente o...
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El horno de deposición de vapor circular circular doble paralelo en depósito de vapor químico en deposición de vapor químico, las sustancias precursoras (generalmente compuestos orgánicos o compuestos orgánicos metálicos) en el gas de reacción se...
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El horno de depósito de carburo de silicio es un método al introducir sustancias precursoras (generalmente compuestos orgánicos o compuestos orgánicos metálicos) en el gas de reacción en la cámara de reacción, y hacer que se descomponen térmicamente...
CVD (deposición de vapor químico) Deposición de gas horno industrial