Horno de deposición de vapor de CVD cuadrado horizontal

La deposición de vapor químico de nuestra empresa (deposición de vapor químico, CVD) es un método al introducir sustancias precursoras (generalmente compuestos orgánicos o compuestos orgánicos metálicos) en el gas de reacción en la cámara de reacción, y haciendo que se sometan a descomposición térmica o descomposición química a altas temperaturas a altas temperaturas . La reacción produce productos de reacción, que se depositan en el sustrato para formar una película delgada. Este método se puede utilizar para preparar hornos eléctricos industriales para materiales de calefacción como metales, aleaciones, semiconductores y cerámica.

Parámetro de producto del horno de deposición de vapor químico CVD

1. Modelo de hornos de grafitización: yhgyl-cjl **/**-** (especificaciones de tamaño personalizadas)
2. Método de calentamiento: calentamiento de resistencia a grafito isostático
3. Control de potencia: bajo voltaje de CC, modo de alta corriente
4. La potencia de diseño es de 200kW, y el poder de producción real no es más de 150kW.
5. Fuente de alimentación: sistema trifásico de cinco hilos, 380V trifásico, frecuencia 50Hz
6. Temperatura de diseño: 2100 ℃, la temperatura común a largo plazo es 2000 ℃;
7. Método de enfriamiento: enfriamiento natural
8. Espacio de colocación de material efectivo: personalizado por el cliente
9. Tasa de calefacción: al cargar, la velocidad de calentamiento promedio por debajo de 1000 ℃ es de 5 ℃/min, la tasa de calentamiento promedio entre 1000-1800 ℃ es de 5 ℃/min, y la tasa de calentamiento promedio entre 1800-2250 ℃ es 3 ℃/// mínimo
10. Precisión de control de temperatura: temperatura ambiente RT -2000 ℃ ≤ ± 5 ℃
11. Configuración de la fuente de alimentación: integrado con el cuerpo del horno
12. Tipo de cuerpo del horno: descarga horizontal de la puerta delantera
13. Contenido de gas de trabajo en el horno: vacío o AR, N2, NH₃ y otros gases (presión ligera positiva), reemplazo de vacío; (Control automático de presión constante en el rango de 100-7500PA)
14. Uniformidad de temperatura: ≤ ± 3 ℃ (evaluado después de 30 minutos de temperatura constante);
15. Medición de la temperatura: medición de temperatura de termopar de tungsteno-tungsteno-tungsteno-tungsten-renio
16. Control de temperatura: Japón Shimaden FP23, PID Controlador de temperatura inteligente Control del programa (precisión del control de temperatura: ± 0.1 ℃) y control manual;
17. Método de protección: PLC+pantalla táctil+alarma de sonido y luz
18. Configuración del sistema de vacío: bomba de válvula deslizante 2H-150
19. Medición del vacío: Resistencia + Capacitancia Película de la película de la película, rango de medición 0-10-5 PA
20. Tasa de aumento de la presión: evacúe a 5PA, detenga la bomba durante 30 minutos y comience al tiempo, aumente la presión por hora ≤ 10p
21. Grado de vacío en frío: ≤5pa (en estado de horno limpio, frío y vacío)
22. Tiempo de aspiración de horno vacío ≤30 minutos (horno vacío, temperatura ambiente, consulte GB/T10066.1-2004 para las pruebas).
23. Presión máxima en el horno 0.02MPA
24. Medidor de flujo de masa: Beijing Qixing Huachuang
25. Sistema de enfriamiento: todas las tuberías de agua circulantes están bien selladas y no hay fuga durante el uso;
26. Control eléctrico: pantalla táctil de 15 pulgadas SIEMENS PLC + Delta. Los parámetros clave, como el vacío, la temperatura y la potencia, se pueden consultar en tiempo real e históricamente, y se pueden exportar a través de una unidad flash USB y configurar una grabadora sin papel.
27. Se utilizan materiales importados para componentes clave, como instrumentos de control de temperatura y termómetros.
28. Método de apertura: Manual
29. Método de entrada y salida del material: equipado con camiones especiales de entrada y salida
30. Color de pintura: cuerpo principal blanco, blanco, azul cielo, base negra

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